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日本HORIBA UVISEL Plus In-Situ 在线监控椭偏仪

日本HORIBA UVISEL Plus In-Situ 在线监控椭偏仪可以很容易的安装在各类反应腔(PECVD、MOCVD、磁控溅射、蒸镀、ALD和MBE),实时监控薄膜沉积或刻蚀过程。

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功能特点技术参数资料下载使用说明书



  • 高速、准确
  • 完整集成了实时测量、建模和报告软件包
  • 便于在线和离线间切换


可获得的信息

  • 薄膜厚度
  • 光学常数(n,k)
  • 材料组成



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